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高純氧化鋁
HIGH PURITY
ALUMINA (99.999%)

恒博公司是5N氧化鋁粉在人工藍寶石行業的供應商之一。通過多年的高純氧化物生產及管理經驗累計,恒博生產工藝為粉體的純度、質量穩定性提供有力的競爭優勢。

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5N高純氧化鋁 & 4N高純氧化鋁

自2001年起,恒博不僅在競爭異常激烈的氧化鋁粉行業生存下來,并且將自身的產品推向了國際化,而生存下來的重要標準就是核心的競爭力:品質。

國際市場

恒博憑借著高純度以及高穩定性的特點,在高純熒光用氧化鋁市場享有盛譽。

LED應用

目前能用于LED生產商品化的襯底有兩種,即藍寶石和碳化硅襯底。從成本等多方面考慮,目前行業大多數的LED企業商品化生產采用了藍寶石襯底方案。

特種磨料應用

特種磨料指的是以氧化鋁粉為原料,作為研磨介質而被廣泛使用。其具有相對純度高、強度大、耐高溫、耐高壓、耐強酸堿腐蝕、熱震穩定性好、化學性能穩定等特點。

藍寶石晶體應用

藍寶石晶體作為一種重要的技術晶體,已被廣泛地應用于科學技術、國防與民用工業、電子技術等領域。例如透紅外窗口材料,微電子領域的襯底基片,激光基質、光學元件等。

顯示屏應用

由氧化鋁制成的人工藍寶石屏幕具有僅次于鉆石的硬度,其耐磨性、斷裂韌性與彈性要高于傳統化學增強玻璃數倍。

新型保溫材料應用

新型保溫材料可應用在高檔窯爐、耐高溫材料以及汽車三元催化劑外保溫抗震材料中。

二十五年積累的大規模生產高純氧化物材料的技術及管理經驗

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  • 陶瓷鋁粉
  • 4N&5N氧化鋁
  • 氧化鋁微珠
  • ZTA粉

陶瓷用高純氧化鋁生產的氧化鋁陶瓷材料具有結構穩定、機械強度高、硬度高、熔點高、抗腐蝕、化學穩定性優良、電阻率大、電絕緣性能好等優點,廣泛應用于集成電路、電子原件等領域。

低溫燒結高純氧化鋁
技術指標
Specification
HBAA03N08Z HBAZ06N00F HB3NA05N12ZM HBWA018N00ZM HBWA025N50Z HBW025N50ZM
晶型(XRD) α-Al?O? α-Al?O? α-Al?O? α-Al?O? α-Al?O? α-Al?O?
中位粒徑D50(µm) 0.3-0.4 0.5-0.6 0.3-0.7 0.18±0.02 0.27±0.03 0.27±0.03
比表面積(㎡/g) 7±1 6.5±1.5 8±1 11±1 8±1 8±1
松裝密度(g/cm³) 1±0.1 0.4±0.05   1±0.1 1±0.1 1±0.1
灼減率(wt%)              ≤2      ≤1 1.2-2 ≤1 ≤6 ≤6
收縮率(%) 17.5±1   18±1 17.5±1 17±1 17±1
燒結密度(g/cm³) ≥3.92   ≥3.9 ≥3.95 ≥3.94 ≥3.94
強度(MPa) ≥350   ≥350 ≥500 ≥450 ≥500
Si(ppm) ≤15 ≤15 ≤300 ≤15 ≤15 ≤15
Fe(ppm) ≤5 ≤5 ≤100 ≤5 ≤5 ≤5
Mg(ppm) ≤2 ≤2 300 300 ≤2 300
Na(ppm) ≤5 ≤5 ≤300 ≤5 ≤5 ≤5
Cu(ppm) ≤5 ≤5 ≤5 ≤5 ≤5 ≤5
Ca(ppm) ≤5 ≤5 ≤5 ≤5 ≤5 ≤5

由5N高純氧化鋁制成的人工藍寶石屏幕具有僅次于鉆石的硬度,其耐磨性、斷裂韌性與彈性要高于傳統化學增強玻璃數倍。藍寶石晶體作為一種重要的技術晶體,已被廣泛地應用于科學技術、國防與民用工業、電子技術等領域。例如透紅外窗口材料,微電子領域的襯底基片,激光基質、光學元件等。


4N氧化鋁可用作熒光粉原料、研磨介質等。其具有相對純度高、強度大、耐高溫、耐高壓、耐強酸堿腐蝕、熱震穩定性好、化學性能穩定等特點。


5N高純氧化鋁
型號
Types
5N氧化塊
5N Alumina Pallets
氧化鋁顆粒
Alumina Granules
氧化鋁球
Alumina Balls
氧化鋁多晶顆粒
Alumina Polycrystal
尺寸
Dimension
Φ50/Φ60 2-5mm 2mm <50mm
50mm-150mm
松裝密度(g/cm³)
Apparent Density
/ 1.8 2.0 2.0
塊密度(g/cm³)
Density
≥3.7 / / /
Al?O?含量(%)
Content
≤2.5 <2.5 <2.5 <2.5
Si(ppm) <1 <1 <1 <1
Na(ppm) <1 <1 <1 <1
Fe(ppm) <1 <1 <1 <1
Ca(ppm) <1 <1 <1 <1
Mg(ppm) <1 <1 <1 <1
Cu(ppm) <1 <1 <1 <1
Pb(ppm) <1 <1 <1 <1
Ti(ppm) <1 <1 <1 <1
 
4N高純氧化鋁
成分
Contents
γ-Al?O? α-Al?O?
Al?O?含量(%) ≥99.99 ≥99.99
Si(PPM) <5 <5
Fe(PPM) <2 <2
Mg(PPM) <1 <1
Ca(PPM) <1 <1
Cu(PPM) ≤2 ≤2
Co(PPM) <1 <1
Ni(PPM) <1 <1
Pb(PPM) <1 <1
Na(PPM) <1 <1
比表面積(㎡/g)
BET
100±10 3-5
d50(µm) 4-20 0.5-20
 
 
 

氧化鋁微珠具備磨耗小、硬度高、耐腐蝕、抗沖擊、經濟實用等特性,是常用的精細球狀研磨介質。其主要應用于有色金屬礦、工業陶瓷粉體材料、非金屬粉體材料、鈦白粉、造紙、涂料等其他粉體材料領域,適用于艾砂磨、球磨機、攪拌磨、剝片機、拋光機和磨砂機等各類設備的磨介。

型號 HBWA-03 HBWA-04 HBWA-06 HBWA-08 HBWA-10 HBWA-20
直徑(mm) 0.3-0.4 0.4-0.6 0.6-0.8 0.8-1.0 1.0-1.2 2.0
公差范圍(mm) 0.28-0.42 0.38-0.62 0.58-0.8 0.78-1.0 0.98-1.18 1.8-2.2
密度(g/cm³) ≥3.90 ≥3.90 ≥3.91 ≥3.91 ≥3.91 ≥3.92
填充密度(g/cm³) 2.37 2.37 2.38 2.39 2.39 2.4
壓碎強度(N/顆) >110 >300 >300 >400 >500 >1600
維氏硬度(HV) >1500 >1500 >1500 >1800 >1800 >1800
磨耗(g.kg/h) <0.12 <0.12 <0.15 <0.15 <0.18 <0.2
Al?O?(%) ≥99.99 ≥99.99 ≥99.99 ≥99.99 ≥99.99 ≥99.99
Si(ppm) ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10
Fe(ppm) ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10
Na(ppm) ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10
Cu(ppm) ≤5 ≤5 ≤5 ≤5 ≤5 ≤5
Ni(ppm) ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10 ≤10

氧化鋯增韌氧化鋁陶瓷(ZTA)是氧化鋯、氧化鋁兩種材料復合制備而成高強度、高韌性的優能復合體,具有優異的化學穩定性和熱穩定性。隨著對高品質陶瓷零件的需求持續增長,ZTA在陶瓷行業受歡迎程度逐步增加。


氧化鋯增韌氧化鋁陶瓷用途(ZTA)廣泛應用于制作耐磨瓷球、耐火材料、結構陶瓷、工程陶瓷和高端電子元器件等;涉及行業分別為泵閥、食品加工、化學和制藥業、紡織工業、航空航天和國防等。

規格型號 HWZ20D02N00Z
物理指標 PHYSICAL INDICATORS
項目 分析數據 測試方法
比表面積(㎡/g)
Specific Surface Area
10-12 BET
粒度分布(μm)
Particle Size
D10 0.1 Malvern Mastersizer 2000
D50 0.2
D90 0.6
水分<wt%> ≤0.6 At 150℃(5min)
燒損<wt%> 0.2-0.3 At 1100℃(1h)
毛坯密度<g/cm³> 2.4±0.2 At 180MPa(20s)
燒結密度<g/cm³> ≥4.3 At 1550℃(5h)
收縮率 20%  
強度<MPa> 580 Universal testing machine
化學成分 CHEMICAL COMPOSITION
項目 分析數據 測試方法
ZrO?<wt%> 20 XRF
Fe?O?<wt%> ≤0.001 ICP
SiO?<wt%> ≤0.001
CaO<wt%> ≤0.001
Na?O<wt%> ≤0.001
 
規格型號 HWZ20D02N12ZM
物理指標 PHYSICAL INDICATORS
項目 分析數據 測試方法
比表面積(㎡/g)
Specific Surface Area
10-12 BET
粒度分布(μm)
Particle Size
D10 0.1 Malvern Mastersizer 2000
D50 0.2
D90 0.6
水分<wt%> ≤0.6 At 150℃(5min)
燒損<wt%> 1.3-1.5 At 1100℃(1h)
毛坯密度<g/cm³> 2.4±0.2 At 180MPa(20s)
燒結密度<g/cm³> ≥4.3 At 1550℃(5h)
收縮率 20%  
強度<MPa> 650 Universal testing machine
化學成分 CHEMICAL COMPOSITION
項目 分析數據 測試方法
ZrO?<wt%> 20 XRF
MgO<wt%> 0.1  
Fe?O?<wt%> ≤0.001 ICP
SiO?<wt%> ≤0.001
CaO<wt%> ≤0.001
Na?O<wt%> ≤0.001
 

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